半導体・真空技術

半導体製造装置
真空機器
プロセス装置

真空装置／プロセスの心臓部を、設計から製造まで自社で。

スマートフォン、車載デバイス、データセンター、AI半導体 ―― 私たちの暮らしと産業を支える「半導体デバイス」をつくるための装置・環境を提供します。

技術概要

当社の中核技術領域です。半導体製造装置のOEM／ODMを中心に、プロセス処理を行うALD装置・CVD装置、マイクロ波を用いたエッチング／アッシング装置、真空環境を構築・維持する真空機器、容器の気密性を検査するリークディテクターまで、半導体製造プロセスに不可欠な装置群をワンストップで提供します。

ドライプロセス（プラズマ・真空下での処理）に対応し、お客様の研究開発から量産工程まで幅広いシーンでご活用いただいています。

対応プロセス・装置

OEM／ODMによる半導体製造装置の開発・製造（受託設計／受託生産）
ALD装置（原子層堆積装置）：原子レベルの薄膜形成プロセスに対応
マイクロ波プラズマ装置：エッチング／アッシング・成膜等のドライプロセスに対応
真空ポンプ・真空計測器：プロセス装置の真空環境構築
リークディテクター（漏れ検査装置）：製品・配管の気密性検査
カスタマイズ装置：お客様仕様に基づく特殊装置の設計・製造

用語の補足

OEM／ODM: 相手先ブランドでの製造受託（OEM）／設計から製造まで請け負う形態（ODM）。
ALD（原子層堆積）: Atomic Layer Deposition。原子1層単位で薄膜を形成する成膜技術。先端半導体プロセスに不可欠。
リークディテクター: ヘリウム等のトレーサーガスを用いて、製品・配管の微小な漏れ（リーク）を検出する装置。真空炉、熱処理設備、半導体チャンバー等の品質保証で使用。
ウェット／ドライプロセス: ウェット＝薬液を用いた処理工程、ドライ＝真空・プラズマを用いた処理工程。半導体製造で並行的に用いられる。

主要取扱メーカー

メーカー（国）	主な取扱領域
CN1社（韓国）	ALD装置（原子層堆積装置）
Pfeiffer Vacuum Technology社（ドイツ）	真空ポンプ、真空計測器、リークディテクター、空冷ドライポンプ ACPシリーズ他
PSM社（韓国）	プラズマユニット