CN1社（韓国）ALD装置

革命的なアトミックレイヤーデポジション（原子層堆積法）装置

CN1社のALD（原子層堆積）装置はウェハーの表面でのプリカーサガスのシーケンスリアクションに基づく 精密な薄膜デポジションを行う革命的装置です。