半導体製造装置、自動制御機器、海外取扱製品、真空機器、映像・光学機器、監視システムの製造、販売、メンテナンス
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CN1社のALD装置はウェーハの表面でのプリカーサ ガスのシーケンスリアクションに基づく強力な薄膜デポジションを行う革命的装置です。
半導体、ディスプレー、ソーラセル、LED、MEMS、光学、バイオ、ナノ及びフレキシブルデバイス等です。
成膜可能な物質は金属、酸化膜、窒化物、ラミネート、混合材料等です。
■コーティング受託サービス
