アッシングシステム、CVD、エッチング装置、自動ナンバリング露光装置など、半導体製造装置をはじめとする広範な自動制御機器開発および生産の分野でアペックスは多くのお客様のご支持をいただいてきました。「ファインメカ」、「エレクトロニクス」、「空圧制御」、「真空」、さらに「プラズマ」等の最新技術を積極的に取り入れ、高い精度が要求される半導体製造装置において、高品質で安定した装置技術を提供しています。
自社開発製品のみならずOEM製造も積極的に行っております。
・仕様のご相談(ニーズに対する総合コンサルタント可能)
・部品/ユニット選定・部品調達・部品設計・製造
・部品・ユニット
・動作確認、検査
・梱包・出荷
・現地立ち上げ調整
・アフターサービス
プラズマCVD: |
減圧下で、反応性ガスのプラズマ放電分解によって薄膜を形成するCVD装置です。 比較的低温でCVD反応が成立する特徴を持っています。 |
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常圧CVD: | 反応源として、液体ソースであるTEOSおよび酸化剤としてO3を用いてSiO2膜を形成する常圧CVD装置です。優れたステップカバレージを持っていることと、高スループットが特徴です。 |